美國BROOKS流量計GP200系列新品介紹

這樣做的一個顯著優(yōu)勢中技術(shù)是它消除了需要，具有匹配的絕對傳感器，因此可以防止不受控制的漂移和流量不準(zhǔn)確。 一般來說，基于差壓的流量測量，確保 y1 具有超強的準(zhǔn)確性和。流量測量的重復(fù)性。

基于壓力的質(zhì)量流量控制器
所有的表現(xiàn)。
沒有任何限制。

美國BROOKS流量計GP200系列降低測量不確定度

一個真正的差壓傳感器。卓越的流量測量精度和可重復(fù)性。
傳統(tǒng)的基于壓力的 MFC 使用兩個絕對壓力傳感器來計算壓降。GP200 系列采用了一種新穎的傳感器方法——一個絕對壓力傳感器與一個真正的差壓 (ΔP) 傳感器串聯(lián)的集成組件。

無需在兩個獨立的絕對壓力傳感器之間進(jìn)行匹配校準(zhǔn)和溫度補償
防止不受控制的漂移和流量不準(zhǔn)確
實現(xiàn)卓越的長期穩(wěn)定性

美國BROOKS流量計GP200系列適用于所有工藝條件

所有壓力、所有氣體、所有過程。
傳統(tǒng)的基于壓力的 MFC 需要高入口壓力才能運行。不是 GP200 系列 -層流元件專為低壓降而設(shè)計，差壓傳感器具有最佳量程，可準(zhǔn)確測量半導(dǎo)體制造中使用的具有挑戰(zhàn)性的低蒸氣壓工藝氣體的流量。

這種獨特的架構(gòu)使 GP200 系列成為適用于標(biāo)準(zhǔn)壓力和臨界低蒸氣壓氣體的通用 P-MFC 解決方案，確保在所有操作條件下的準(zhǔn)確性和可重復(fù)性。

35 psia 是 GP200 系列的典型入口壓力規(guī)格，但可根據(jù)您的具體應(yīng)用配置更高或更低
設(shè)計用于支持關(guān)鍵的低壓工藝氣體，包括：
氯化溴3
C 4 F 6 -q
C 4 F 8
碳化硅4
串?dāng)_不敏感≤ ±1% 的設(shè)定點，最高 40 psi/sec 入口壓力峰值
層流元件

美國BROOKS流量計GP200系列精確和可重復(fù)的氣體輸送

2.5 倍更快的流動穩(wěn)定，以提高晶圓吞吐量。
對上升和下降流量穩(wěn)定時間的超快速、高度可重復(fù)的響應(yīng)，沒有長時間的泄放時間延遲

GP200 系列不受來自脈沖氣體噴射、混合歧管和分流器子組件的不同背壓的影響。獨特的下游閥架構(gòu)通過將層流元件和 ΔP 傳感器與下游串?dāng)_（壓力變化）隔離開來，允許誤差與下游壓力無關(guān)，從而能夠?qū)⒘髁枯斔偷礁哌_(dá) 1200 Torr 的下游壓力中。

由于沒有可變的氣體內(nèi)部體積需要消耗，下游閥能夠快速關(guān)閉和切換脈沖氣體輸送的配方設(shè)定點。瞬態(tài)變化會導(dǎo)致薄膜厚度變化以及電氣變化。

具有快速降壓響應(yīng)的匹配瞬態(tài)響應(yīng)消除了過渡到低流量設(shè)定點時的長排放時間延遲（消除“尾部效應(yīng)”）。

下游閥門架構(gòu)

美國BROOKS流量計GP200系列閥門泄漏改善 100 倍

控制閥的零泄漏消除了第一晶片效應(yīng)。
當(dāng) MFC 控制閥發(fā)生氣體泄漏時，它會在下游氣動隔離閥處引起不必要的壓力積聚，從而形成截留體積的氣體。

當(dāng)啟動新的配方序列時，這些被困氣體進(jìn)入工藝室，導(dǎo)致第一片晶圓出現(xiàn)不均勻性和臨界尺寸 (CD) 缺陷，稱為第一片晶圓效應(yīng)。工藝工程師通過在處理晶圓之前運行虛擬晶圓或?qū)饬鬓D(zhuǎn)移到廢氣中來避免第一晶圓效應(yīng)。

帶有工程 PCTFE 密封表面的可選零泄漏控制閥提供改進(jìn)的閥門關(guān)閉以消除第一晶圓效應(yīng)：

<0.005% FS 對于 42-46 箱
<0.02% FS 對于 40-41 箱

工程 PCTFE 密封表面